胶体液流动压空化射流抛光新技术基础研究

提出一种利用高压胶体液流动压空化射流技术进行超光滑表面加工的新方法。该方法利用空化射流产生的动压胶体液流中的二氧化硅等纳米颗粒与加工表面的界面化学反应和机械剪切作用实现对加工表面材料的微量去除，并利用空化射流形成的空化效应强化加工过程中界面化学反应和流体动压作用，在获得高质量超光滑表面的同时大幅度提高加工效率。首先运用量子化学、界面化学、流体动力学等理论，研究胶体液流动压空化射流抛光过程中纳米颗粒与加工表面界面化学反应的形成条件、材料去除机理及空化效应对加工过程的作用机制，然后在研究液流动压空化形成条件及控制方法的基础上研制空化射流抛光的原理性实验装置，并对其去除特性和加工工艺进行研究，为最终形成一种新的超光滑表面加工技术奠定基础。本项目的研究成果可应用于光学、微电子等领域的超光滑表面的加工，对突破国外的技术封锁，提高我国超精密加工的技术水平具有重要意义。