半导体多晶薄膜中缺陷的形成与控制动力学

基本信息
批准号:11274179
项目类别:面上项目
资助金额:75.00
负责人:张立新
学科分类:
依托单位:南开大学
批准年份:2012
结题年份:2016
起止时间:2013-01-01 - 2016-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:李飞飞,王美,杜文利,冯页新,梁萌,姚晓龙
关键词:
动力学缺陷形成与控制太阳能电池半导体多晶薄膜第一性原理计算
结项摘要

The semiconducting polycrystalline thin films have many potential applications due to the low cost of the fabrication processes, especially for next generation solar cells. The Cu(InGa)Se2 (CIGS) and CdTe thin films are very special, for the solar cell based on the thin films can have even higher efficiency than that of the coresponding single crystalline one while the mechanism is still unknown and under intense investigation. We propose that with the rich surfaces and grain boundaries in the polycrystalline thin film, the formation of some point defects during growth can be selectively inhibited. In this project,using first principles calculations, taking the CIGS polycrystalline as an example, we will study the atomic and electronic structures of the surfaces, interfaces, and grain boundaries, the dependant of the structures on the growth environment, the formation energies of the intrinsic defects or complex defects at the growth fronts of CIS, CGS, and CIGS. The aim of this project is to find the dynamics of the defect formation and the ways to control it during polycrystalline thin film growth in order to further improve the electric properties of the material.

半导体多晶薄膜因工艺相对简单而具有广泛的潜在应用,尤其是作为新一代光电转换材料。其中,铜铟镓硒(CIGS)、CdTe等薄膜性质特殊,可以实现优于其对应单晶的较高太阳电池转换效率,而其中的物理原理仍在深入探讨中。我们认为,电池效率主要取决于各种缺陷在晶粒中的分布。在这些薄膜材料中,特定的表面、晶界的存在有可能对缺陷的形成起到选择性抑制的作用。在本项目中,我们将使用第一性原理计算的方法,以CIGS多晶薄膜为原型,研究沿不同方向的表面、晶界的原子结构及电子结构特征,研究生长环境的变化、杂质(如Na)的存在对诸结构的影响,研究在生长前沿(表面和晶界)的内禀缺陷(如铜空位、铜位上的III族替换元素,以及复合缺陷等)的形成能对晶向、生长环境的依赖等等。最终的目的是发现缺陷形成的动力学理论,以期指导实验有选择地控制缺陷的形成与分布,进一步提高材料的电学性能。

项目摘要

在过去的4年里,我们紧紧围绕着表面微结构这个主题,探讨微结构的决定因素、变化规律。我们的研究没有简单局限于单一一个CuInSe2表面系统,而是扩展到了金刚石、金属(Cu、Ni)、半导体(Si、Ge)等表现各异的一系列表面系统。初步建立起一套较为系统完整的理论方法,所得到的结论一般具有普适的意义,解决了一系列外延生长过程中的理论问题,为提高薄膜生长质量、解决相关技术困难提供了理论指导。因此,可以说,在小组老师和同学的共同努力下,我们很好地实现了当初设立的目标和任务,为后续的进一步研究打下了坚固的基础。. 这期间,我们共发表SCI文章12篇(包括一篇刚刚接受的),还有4篇处在审稿阶段。共有1名博士生、9名硕士生毕业。目前在小组继续学习的博士生有4人,硕士生有8人。

项目成果
{{index+1}}

{{i.achievement_title}}

{{i.achievement_title}}

DOI:{{i.doi}}
发表时间:{{i.publish_year}}

暂无此项成果

数据更新时间:2023-05-31

其他相关文献

1

基于一维TiO2纳米管阵列薄膜的β伏特效应研究

基于一维TiO2纳米管阵列薄膜的β伏特效应研究

DOI:10.7498/aps.67.20171903
发表时间:2018
2

硬件木马:关键问题研究进展及新动向

硬件木马:关键问题研究进展及新动向

DOI:
发表时间:2018
3

端壁抽吸控制下攻角对压气机叶栅叶尖 泄漏流动的影响

端壁抽吸控制下攻角对压气机叶栅叶尖 泄漏流动的影响

DOI:
发表时间:2020
4

基于ESO的DGVSCMG双框架伺服系统不匹配 扰动抑制

基于ESO的DGVSCMG双框架伺服系统不匹配 扰动抑制

DOI:
发表时间:2018
5

敏感性水利工程社会稳定风险演化SD模型

敏感性水利工程社会稳定风险演化SD模型

DOI:10.16265/j.cnki.issn1003-3033.2021.04.003
发表时间:2021

张立新的其他基金

批准号:41030534
批准年份:2010
资助金额:245.00
项目类别:重点项目
批准号:40271080
批准年份:2002
资助金额:29.00
项目类别:面上项目
批准号:21871052
批准年份:2018
资助金额:65.00
项目类别:面上项目
批准号:31130059
批准年份:2011
资助金额:300.00
项目类别:重点项目
批准号:19701011
批准年份:1997
资助金额:5.00
项目类别:青年科学基金项目
批准号:91227101
批准年份:2012
资助金额:75.00
项目类别:重大研究计划
批准号:51565049
批准年份:2015
资助金额:46.00
项目类别:地区科学基金项目
批准号:30630007
批准年份:2006
资助金额:150.00
项目类别:重点项目
批准号:11731012
批准年份:2017
资助金额:250.00
项目类别:重点项目
批准号:21172040
批准年份:2011
资助金额:60.00
项目类别:面上项目
批准号:11574157
批准年份:2015
资助金额:62.00
项目类别:面上项目
批准号:11071214
批准年份:2010
资助金额:26.00
项目类别:面上项目
批准号:40971195
批准年份:2009
资助金额:56.00
项目类别:面上项目
批准号:31201481
批准年份:2012
资助金额:23.00
项目类别:青年科学基金项目
批准号:10471126
批准年份:2004
资助金额:21.00
项目类别:面上项目
批准号:30873129
批准年份:2008
资助金额:32.00
项目类别:面上项目
批准号:10071072
批准年份:2000
资助金额:13.00
项目类别:面上项目
批准号:51365048
批准年份:2013
资助金额:50.00
项目类别:地区科学基金项目
批准号:10771192
批准年份:2007
资助金额:24.00
项目类别:面上项目
批准号:20874014
批准年份:2008
资助金额:33.00
项目类别:面上项目
批准号:49401003
批准年份:1994
资助金额:10.00
项目类别:青年科学基金项目
批准号:81101462
批准年份:2011
资助金额:22.00
项目类别:青年科学基金项目
批准号:40905053
批准年份:2009
资助金额:20.00
项目类别:青年科学基金项目
批准号:40940002
批准年份:2009
资助金额:20.00
项目类别:专项基金项目
批准号:30370121
批准年份:2003
资助金额:21.00
项目类别:面上项目
批准号:11074128
批准年份:2010
资助金额:39.00
项目类别:面上项目
批准号:58770043
批准年份:1987
资助金额:3.50
项目类别:面上项目
批准号:21672038
批准年份:2016
资助金额:65.00
项目类别:面上项目
批准号:30973665
批准年份:2009
资助金额:34.00
项目类别:面上项目
批准号:30570129
批准年份:2005
资助金额:30.00
项目类别:面上项目
批准号:31430002
批准年份:2014
资助金额:297.00
项目类别:重点项目

相似国自然基金

1

籽晶辅助多晶硅定向凝固生长初期晶体缺陷形成与控制研究

批准号:51861023
批准年份:2018
负责人:周耐根
学科分类:E0102
资助金额:39.00
项目类别:地区科学基金项目
2

弱外延生长制备有机半导体多晶薄膜

批准号:51133007
批准年份:2011
负责人:闫东航
学科分类:E0309
资助金额:290.00
项目类别:重点项目
3

多晶硅薄膜低温生长动力学途径探索

批准号:10974227
批准年份:2009
负责人:曹则贤
学科分类:A2011
资助金额:41.00
项目类别:面上项目
4

多晶纳米硅薄膜热传导的分子动力学研究

批准号:10342001
批准年份:2003
负责人:汤奇恒
学科分类:A1101
资助金额:8.00
项目类别:专项基金项目