亚低温调节细胞自噬维持脑缺血再灌注后血脑屏障稳态的作用机制研究

Stroke is one of the most crucial disabled and lethal diseases in China. There are 20 billion RMB economic burden for Chinese government every year, so it is the important task to improve the mortality and outcome for stroke patients. The best treatment for stroke patients is thrombolysis with time-window and neuroprotective treatment. It is studied intensively in term of the protection for ischemic penumbra. It is pivotal to protect blood brain barrier to alleviate the intracranial hemorrhage and brain edema post thrombolysis. It is found recently that autophagy acts in the BBB injury after ischemia/reperfusion insult besides necrosis of neuron and glia. Autophagy acts to reserve the function of BBB. Therapeutic hypothermia is significantly effective treatment for stroke. However, there has not been studied whether protective mechanism of hypothermia is related to autophagy so far. The study plan to explore the BBB-protection mechanism of hypothermia related to autophagy for I/R injury in order to find new mechanism of hypothermia for brain protection. The grant provides the experiment basis for application of hypothermia in stroke.

缺血性脑卒中是当前中国死亡率和致残率最高的疾病之一，每年的经济负担达200亿元以上，因此降低患者的死亡率与致残率是当前最主要的任务。对缺血性脑卒中，目前最佳的治疗方案是及早溶栓和脑保护治疗，其中对缺血半暗带的保护为近年来研究热点。在给予脑卒中患者溶栓治疗后，保护血脑屏障是降低溶栓后颅内出血和脑水肿的关键。近年来研究发现，缺血再灌注后导致的血脑屏障破坏，除了内皮细胞，星形胶质细胞的坏死以外，还启动了细胞自噬效应，其对于血脑屏障的功能保留起到了极其重要的影响。而亚低温疗法对于脑缺血再灌注后脑组织有显著的保护作用，那么其对脑缺血再灌注后血脑屏障自噬效应及分子机制有无影响，目前尚无研究。本实验拟采用透射电镜、免疫荧光法、免疫印迹等研究方法，研究亚低温疗法对脑缺血再灌注后血脑屏障自噬效应以及自噬分子机制的影响，以提出亚低温疗法脑保护的新机制，为亚低温疗法在缺血性脑卒中的广泛应用提供实验依据。

缺血性脑卒中是当前中国死亡率和致残率最高的疾病之一，每年的经济负担达200亿元以上，因此降低患者的死亡率与致残率是当前最主要的任务。对缺血性脑卒中，目前最佳的治疗方案是及早溶栓和脑保护治疗，其中对缺血半暗带的保护为近年来研究热点。在给予脑卒中患者溶栓治疗后，保护血脑屏障是降低溶栓后颅内出血和脑水肿的关键。近年来研究发现，缺血再灌注后导致的血脑屏障破坏，除了内皮细胞，星形胶质细胞的坏死以外，还启动了细胞自噬效应，其对于血脑屏障的功能保留起到了极其重要的影响。而亚低温疗法对于脑缺血再灌注后脑组织有显著的保护作用，那么其对脑缺血再灌注后血脑屏障自噬效应及分子机制是本研究的研究目标。本实验采用了透射电镜、免疫荧光法、免疫印迹等研究方法，研究发现亚低温疗法对脑缺血再灌注后血脑屏障的自噬效应以及自噬相关分子（LC3,LAMP-2）的影响，提出了亚低温疗法脑保护自噬的新机制，为亚低温疗法在缺血性脑卒中的广泛应用提供实验依据。