基于中子辐照的宽禁带半导体材料的物性研究

基本信息
批准号:51372056
项目类别:面上项目
资助金额:80.00
负责人:宋波
学科分类:
依托单位:哈尔滨工业大学
批准年份:2013
结题年份:2017
起止时间:2014-01-01 - 2017-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:王一,赵超亮,元泉,银颖,刘康
关键词:
辐照中子半导体磁性
结项摘要

Due to the outstanding features such as wide bandgap, high critical electric field, high saturated electron mobility, especially the better resistance characteristics than conventional Si and GaAs in severe environment, wide band gap semiconductor has extensive applications in the field of aerospace, radar communication, weapons. According to the situation of the lack of research on microstructure and physical properties irradiated by neutron, this project is based on the wide band gap semiconductor, and a systematically study to probe the role of irradiation on properties was performed. Crystal characterization technique including XRD, Raman, EELS, HRTEM, PAS, combined with properties characterization methods such as PPMS, SQUID, PL, CL etc were used to investigate the effect of neutron irradiation on their microstructure, optical and electromagnetic transport properties. Using the first principles to calculate the properties after irradiation, to analysis the mechanism of different materials after neutron irradiation and to explore the possible new phenomena and new rules, revealing the inner association of materials - irradiation defects -properties, has important significance of expanding its application field and physical connotations.

宽禁带半导体具有禁带宽度大、临界电场高、电子饱和迁移率高等优异特性,特别是其耐恶劣环境特性是Si和GaAs等传统半导体所无法比拟的,因此广泛应用于航空航天、雷达通信、武器装备等领域。针对中子辐照对其微观结构和物理性质的影响缺乏研究的现状,本项目以宽禁带半导体为研究对象,系统地开展中子辐照对半导体材料物性作用规律的研究。项目拟采用XRD, Raman, EELS, HRTEM, PAS等结构表征技术,结合PPMS, SQUID, PL, CL等物性测量方法,系统地研究中子辐照对半导体材料微观结构、光学、电磁输运性质的作用规律。采用第一性原理对辐照后的物性进行理论计算,分析不同材料中子辐照后物性的变化机理,探索可能的新现象和新规律,揭示材料种类-辐照缺陷-物性变化的内在关联,对于发掘辐照宽禁带半导体的物理内涵,拓展其应用领域具有重要的意义。

项目摘要

本项目以宽禁带半导体材料为研究对象,以中子辐照为产生缺陷的技术手段,在宽禁带半导体材料中开展缺陷诱导产生的磁学、光学和电催化性质等研究内容,研究宽禁带半导体材料中的缺陷种类、含量与和物性变化的内在关联。项目执行期间取得多项重要的研究成果,共计发表SCI论文35篇,其中以通讯(或第一)发表J. Am. Chem. Soc. 1篇,Nano Lett.1篇,Adv. Mater.1篇, Adv. Funct. Mater.1篇,ACS Appl. Mat. Interfaces 4篇,Appl. Phys. Lett. 3篇。在双空位的AlN纳米螺旋中,观察到了时间长达300 s 的长余辉现象,在中子辐照的单晶硅中发现了由6个Si空位所组成的V6缺陷,以及由此所诱导产生的长程磁有序,在二维层状半导体材料二硫化钼中区分了空位、边缘和相结构对于电催化的贡献大小。本项目把握了半导体材料与能源领域的发展动向,瞄准宽禁带半导体材料的辐照损伤机制、辐照缺陷发光研究、半导体材料与电子结构的变化对物理性质影响等重大科学技术问题,对面向各类航空、航天以及战略武器电子系统的重大社会应用需求有着重要的意义。

项目成果
{{index+1}}

{{i.achievement_title}}

{{i.achievement_title}}

DOI:{{i.doi}}
发表时间:{{i.publish_year}}

暂无此项成果

数据更新时间:2023-05-31

其他相关文献

1

磁性树脂和活性炭混合吸附剂吸附腐殖酸研究

磁性树脂和活性炭混合吸附剂吸附腐殖酸研究

DOI:10.16796/j.cnki.1000-3770.2020.09.008
发表时间:2020
2

A Fast Algorithm for Computing Dominance Classes

A Fast Algorithm for Computing Dominance Classes

DOI:
发表时间:2016
3

多元铜基硫族半导体纳米晶的发光性能及其在电致发光器件中的应用进展

多元铜基硫族半导体纳米晶的发光性能及其在电致发光器件中的应用进展

DOI:10.1360/TB-2020-1633
发表时间:2021
4

DOX-MNPs 抑制秀丽隐杆线虫ras 原癌基因的 过度激活及毒性研究

DOX-MNPs 抑制秀丽隐杆线虫ras 原癌基因的 过度激活及毒性研究

DOI:
发表时间:2016
5

Andreev reflection spectroscopy of ferromagnetic Fe0.26TaS2 with layered structure

Andreev reflection spectroscopy of ferromagnetic Fe0.26TaS2 with layered structure

DOI:10.7498/aps.68.20191221
发表时间:2019

宋波的其他基金

批准号:30371429
批准年份:2003
资助金额:20.00
项目类别:面上项目
批准号:31200184
批准年份:2012
资助金额:22.00
项目类别:青年科学基金项目
批准号:50574009
批准年份:2005
资助金额:26.00
项目类别:面上项目
批准号:81170704
批准年份:2011
资助金额:65.00
项目类别:面上项目
批准号:51601154
批准年份:2016
资助金额:20.00
项目类别:青年科学基金项目
批准号:81570686
批准年份:2015
资助金额:57.00
项目类别:面上项目
批准号:11504403
批准年份:2015
资助金额:22.00
项目类别:青年科学基金项目
批准号:21204054
批准年份:2012
资助金额:25.00
项目类别:青年科学基金项目
批准号:81571158
批准年份:2015
资助金额:57.00
项目类别:面上项目
批准号:51274269
批准年份:2012
资助金额:80.00
项目类别:面上项目
批准号:39970739
批准年份:1999
资助金额:12.00
项目类别:面上项目
批准号:31601042
批准年份:2016
资助金额:20.00
项目类别:青年科学基金项目
批准号:71302021
批准年份:2013
资助金额:20.00
项目类别:青年科学基金项目
批准号:51672057
批准年份:2016
资助金额:62.00
项目类别:面上项目
批准号:11174310
批准年份:2011
资助金额:60.00
项目类别:面上项目
批准号:51775208
批准年份:2017
资助金额:65.00
项目类别:面上项目
批准号:30672093
批准年份:2006
资助金额:29.00
项目类别:面上项目
批准号:71173013
批准年份:2011
资助金额:42.00
项目类别:面上项目
批准号:90715007
批准年份:2007
资助金额:50.00
项目类别:重大研究计划
批准号:21475016
批准年份:2014
资助金额:80.00
项目类别:面上项目
批准号:51174019
批准年份:2011
资助金额:62.00
项目类别:面上项目
批准号:51774024
批准年份:2017
资助金额:60.00
项目类别:面上项目
批准号:51078033
批准年份:2010
资助金额:38.00
项目类别:面上项目
批准号:51178045
批准年份:2011
资助金额:60.00
项目类别:面上项目
批准号:31570228
批准年份:2015
资助金额:63.00
项目类别:面上项目
批准号:51172055
批准年份:2011
资助金额:60.00
项目类别:面上项目
批准号:30271304
批准年份:2002
资助金额:19.00
项目类别:面上项目
批准号:51603115
批准年份:2016
资助金额:20.00
项目类别:青年科学基金项目
批准号:21674075
批准年份:2016
资助金额:60.00
项目类别:面上项目
批准号:81873629
批准年份:2018
资助金额:53.00
项目类别:面上项目
批准号:39770741
批准年份:1997
资助金额:13.00
项目类别:面上项目
批准号:51505166
批准年份:2015
资助金额:20.00
项目类别:青年科学基金项目
批准号:31770249
批准年份:2017
资助金额:60.00
项目类别:面上项目
批准号:41161056
批准年份:2011
资助金额:48.00
项目类别:地区科学基金项目
批准号:50246013
批准年份:2002
资助金额:8.00
项目类别:专项基金项目
批准号:61572268
批准年份:2015
资助金额:65.00
项目类别:面上项目
批准号:31801386
批准年份:2018
资助金额:25.00
项目类别:青年科学基金项目
批准号:50902037
批准年份:2009
资助金额:20.00
项目类别:青年科学基金项目

相似国自然基金

1

基于宽禁带半导体SiC的中红外非线性光学材料

批准号:51272276
批准年份:2012
负责人:王刚
学科分类:E0201
资助金额:83.00
项目类别:面上项目
2

宽禁带半导体材料强电负性F杂质间隙掺杂研究

批准号:61504128
批准年份:2015
负责人:李辉杰
学科分类:F0405
资助金额:20.00
项目类别:青年科学基金项目
3

磁场下准一维纳米宽禁带稀磁半导体的制备及物性研究

批准号:50702060
批准年份:2007
负责人:邹优鸣
学科分类:E0207
资助金额:19.00
项目类别:青年科学基金项目
4

宽禁带半导体发光材料的能隙拓宽和深能级控制

批准号:18670719
批准年份:1986
负责人:林振金
学科分类:A24
资助金额:2.00
项目类别:面上项目