为充分利用1.4-1.7 um 这一光纤通讯低损耗窗口的波段,采用多种稀土离子共掺杂到单一基片中去实现宽带集成光放大器成为当前研究的热点。其中稀土(Er, Tm)共掺杂Al2O3和铝基玻璃平面光波导的研究就是其中之一。本研究项目采用金属蒸发真空离子源(MEVVA)离子注入机,对磁控溅射获得的Al2O3和铝基玻璃薄膜进行(Er, Tm)、(Er, Yb)、(Er, Tm, Yb)和(Er, Tm, Si)共注入,合成出共掺杂Al2O3和铝基玻璃发光薄膜。分析共掺杂Al2O3和铝基玻璃薄膜的结构、测试其光电特性和光致发光性能;分析光敏化剂Yb和nc-Si对共掺杂Al2O3和铝基玻璃薄膜发光性能的影响;探讨提高共掺杂Al2O3和铝基玻璃薄膜发光效率的途径,并研究其能量输运方程和发光机理。这为共掺杂Al2O3和铝基玻璃发光薄膜在宽带平面光波导器件方面的潜在应用提供实验和理论依据。
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数据更新时间:2023-05-31
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