离子束辅助沉积制备Pt/C混合膜及其抑制行波管栅电子发射的机理研究

栅控脉冲行波管在卫星通讯、精密制导等方面起了重要作用，因此在国防、航天和通讯领域中具有重大意义。但是栅控脉冲行波管在工作时，由于阴极发射物质Ba、BaO不断蒸发到栅网上，引起栅电子发射，严重影响行波管的正常工作及寿命。Pt、C、Hf等单质材料用于抑制脉冲行波管的栅电子发射亦有相当历史，受其抑制栅电子发射机理的限制，预计在不久的将来也难于满足新一代脉冲行波管对栅极镀层的要求。因此设想采用离子束辅助沉积技术制备Pt/C混合膜，综合Pt、C膜各自的优点，进一步提高栅极镀层抑制电子发射的性能，满足新一代脉冲行波管对栅极镀层的要求，发展具有自主知识产权的新型催化功能薄膜。通过研究混合膜抑制栅电子发射的机理，可进一步探索三元混合膜、纳米材料抑制栅电子发射的可能性，发展具有自主知识产权的用于抑制栅电子发射的新型功能薄膜。