抑制栅电子发射的离子束镀覆及机理研究

从创造和维持栅极表面高功函数以抑制栅电子发射的基本概念出发，用离子束技术制备铪和类石墨镀层；通过阴极发射物在镀层上的粘滞和扩散行为及对功函数的影响，了解镀层抑制栅电子发射的机理；研究系统中残余气体及阴极发射物与镀层的相互作用及对电子发射性能的影响，探索抑制栅发射镀层的失效机制；发展有自主知识产权的抑制栅 电子发射的新技术。