纳米硅/掺杂氧化硅结构薄膜是一种特定设计的半导体发光材料,在微电子和光电子器件方面都具有广泛的应用前景。利用磁控溅射法在硅基衬底上淀积纳米硅/掺杂氧化硅层状结构薄膜,研究纳米层的厚度和后处理条件,以及氧化硅中引入的发光中心对光致发光和电致发光的影响,获得其最佳参数。最终制得发光性能优良的硅基发光材料。
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数据更新时间:2023-05-31
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