基于ECR-PLA等离子体的原位掺杂机理和应用

在研究电子回旋共振（ECR）微波放电和脉冲激光烧蚀（PLA）共同作用下引发的ECR-PLA等离子体特性及其对材料作用机理的基础上，探索这类等离子体的一种新的应用。通过对活性气氛中PLA过程和活性源辅助的脉冲激光沉积机理研究，包括对在连续的ECR等离子体环境中瞬态PLA等离子体的时空演变，高速飞行的烧蚀产物在ECR等离子体中的输运和与ECR等离子体中活性物质的反应，等离子体中的气相膜物质在衬底表面的凝聚、成核、成膜和活性、载能气相杂质物质对沉积生长中的膜层的掺杂等研究，摸索一种新的、基于ECR-PLA等离子体的原位掺杂方法。低温等离子体在材料等领域的应用日益广泛，ECR-PLA等离子体兼具ECR等离子体和PLA等离子体的特点，在材料的制备和处理应用上有独到的效果，有望摸索一种能有效控制掺杂浓度和掺杂均匀性的原位掺杂的新方法，而等离子体特性和基本过程的研究则是等离子体技术应用的基础。