管件内壁离子注入新技术的机理研究

利秀等离子体源对管件内壁进行离子注入的改性处理技术，是由我们在国际上首先提出的具有自主知识产权的高新实用技术，具有很广的工业应用前景。与管壁外表面改性机理相比较，由于电场分布、等离子体鞘层等一些物理问题的特殊性，使管件内表面改性处理更加复杂。从实验和理论上对其机理进行深入研究无疑对该技术的产业化应用具有十分重要的意义。