新型等离子体法制备的AlN陶瓷与金属基的结合与界面

基本信息
批准号:59671048
项目类别:面上项目
资助金额:12.00
负责人:杨思泽
学科分类:
依托单位:中国科学院物理研究所
批准年份:1996
结题年份:1999
起止时间:1997-01-01 - 1999-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:杨思泽,吴杏芳,金铮,陈熙琛,吕铭芳,江莹冰,高逢辰,刘赤子
关键词:
金属基复合材料等离子体改性界面
结项摘要

AIN陶瓷材料具有良好导热性,高抗腐蚀能力,高电阻率,由于无毒和高腐蚀阻抗,它被应用于航天工业作为一种抗氧化产品。新型高能量密度等离子体法利用内外皆为铝材的电极制成等离子体枪,以氮气为工作气体进行高电压脉冲放电,产生高能量密度的N和Al混合等离子体,并将等离子体高速率喷射到45号钢和不锈钢等金属基底表面,成功地制备了AIN薄膜。此法形成的AIN陶瓷与基底结合牢固,由于脉宽只有数十微秒,使薄膜、过渡层及基底表面很快升温并急速冷却,产生高淬火率,从而使形成的材料具有很高的强度和硬度,并使耐腐蚀性提高一个量级以上。这种方法是我们在国际上首次提出,共发表论文10篇,其中7篇为SCI收录刊物。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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