类球形有机大分子抛光液设计及其原子级抛光机理
基本信息
批准号：U0635002
项目类别：联合基金项目
资助金额：140.00
负责人：刘岩
学科分类：
依托单位：清华大学
批准年份：2006
结题年份：2010
起止时间：2007-01-01 - 2010-12-31
项目状态： 已结题
项目参与者：潘国顺,陈扬枝,史宝军,朱文坚,戴媛静,黄雅婷,孙家振,姚华平,李鸿秋
关键词：
原子级抛光抛光液设计类球形有机大分子
结项摘要
针对下一代计算机硬盘（采用垂直磁记录技术）盘基片、集成电路硅衬底、芯片等材料表面原子级粗糙度和无损伤的加工要求，以及现有化学机械抛光（CMP）技术中存在的问题，提出研制以特殊结构及形状的有机大分子取代传统无机磨粒的抛光液体系，并研究其在CMP过程中的抛光特性和机理。通过综合考虑抛光液特性、抛光垫特性、抛光工艺参数以及被抛光材料特性等的相互作用和关系，以流体力学、界面化学、摩擦化学等原理为基础，建立
项目摘要
项目成果
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数据更新时间：2023-05-31
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