倾斜/旋转紫外光刻技术及其在MEMS中的应用研究

倾斜/旋转紫外光刻技术是利用掩模和基片相对紫外曝光光束的倾斜和旋转过程制作三维复杂微结构的微加工技术。该技术具有成本低、产量高、制作结构种类多样等优点，因而在MEMS加工领域得到越来越广泛的应用。本项目拟从光刻的主要工艺出发，建立相对完善的模型来分析和优化倾斜/旋转紫外光刻工艺中物理和化学过程对三维微结构的重要影响。从掩模优化设计角度出发，探索利用倾斜/旋转紫外光刻技术制作复杂三维微结构的新方法。建立分析这类三维复杂微结构的光学和力学特性的系统方法，并利用相应的分析结果发展倾斜/旋转紫外光刻技术在MEMS系统的应用领域。.该项目的立项研究不仅对于发展紫外光刻技术及其在MEMS中的应用具有重要的科学意义，而且对加强国际合作、提升我国运用紫外光刻技术制作MEMS器件的能力具有十分重要的现实意义。

倾斜/旋转紫外光刻技术是利用掩模和基片相对紫外曝光光束的倾斜和旋转过程制作三维复杂微结构的微加工技术。该技术具有成本低、产量高、制作结构种类多样等优点，因而在MEMS加工领域得到越来越广泛的应用。本项目从光刻的主要工艺出发，建立了相对完善的模型来分析和优化倾斜/旋转紫外光刻工艺中物理和化学过程对三维微结构的重要影响，并初步用实验结果验证了模型了合理性。基于双面光刻方式以及亮衬线和灰阶掩模相结合的调整策略，提出了利用倾斜/旋转紫外光刻技术制作高保真度三维微结构的新方法。建立了分析和测量这类三维复杂微结构的光学特性的方法，并利用相应的分析结果发展倾斜/旋转紫外光刻技术在MEMS系统的应用领域。该项目的研究结果对于发展紫外光刻技术及其在MEMS中的应用具有重要的科学意义。