利用各种坡莫合金的高磁导率和低矫顽力,并应用Ag、Cu等非磁性金属的高电导率,制备具有较大巨磁阻抗(GMI)效应的多层膜结构材料。研究各种材料(元素及其成分)、多层膜结构和电磁性质、溅射制备工艺条件等因素对于薄膜阻抗和频率特性的影响得到其产生GMI效应的唯象机理与影响该效应的主要因素。建立物理模型,利用微磁学方法,研究多层膜界面效应和层间耦合情况对于其巨磁阻抗效应的影响。.
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数据更新时间:2023-05-31
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