本项目研究了富勒烯及其替位式掺杂分子材料的制备,分离、提纯条件及方法,成功地制备了高质量的C60,C70富勒烯分子材料;研究了本征富勒烯薄膜的结构特性和光电特性,对衬底材料、沉积条件以及退火过程对薄膜结构的影响进行了分析;对硼、硫氮掺杂富勒烯薄膜的结构、电学和光学特性作了研究;在云母以及GRAS、Si等半导体衬底材料上制备出高质量的取向富勒烯薄膜,研究了生长条件对薄膜质量的影响,对薄膜的结构、电学性质、发光特性进行了深入地探讨;对氧离子体聚合富勒烯薄膜的结构和光电性质进行了研究;这些大量的基础性工作为富勒烯在半导体工业中的应用提供了气实的理论基础和翔实的技术资料,具有重要的意义。
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数据更新时间:2023-05-31
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