亚50纳米凹槽自对准双栅MOS器件研究

基本信息
批准号:60176010
项目类别:面上项目
资助金额:20.00
负责人:徐秋霞
学科分类:
依托单位:中国科学院微电子研究所
批准年份:2001
结题年份:2004
起止时间:2002-01-01 - 2004-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:殷华湘,孙宝刚,周锁京,丁明正,于雄飞,杨雪莹,郝秋华,赵玉印,柴淑敏
关键词:
亚50纳米新结构双栅MOS器件
结项摘要

研究亚50纳米的新结构MOS器件。创新提出可实际制作的凹槽自对准双栅器件结构,运用100纳米的刻印技术实现实际栅长为亚50纳米的MOS器件,并可应用于金属栅结构。在双极器件亩捞卦诵谢砩希淦骷阅?面积比比0.1微米平面MOS管有很大提高。同时研究相关的特殊工艺技术,包括三维薄栅氧化与多层复合膜刻蚀等。最终提取电学参数,建立适用于本结构的器件模型。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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