研究亚50纳米的新结构MOS器件。创新提出可实际制作的凹槽自对准双栅器件结构,运用100纳米的刻印技术实现实际栅长为亚50纳米的MOS器件,并可应用于金属栅结构。在双极器件亩捞卦诵谢砩希淦骷阅?面积比比0.1微米平面MOS管有很大提高。同时研究相关的特殊工艺技术,包括三维薄栅氧化与多层复合膜刻蚀等。最终提取电学参数,建立适用于本结构的器件模型。
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数据更新时间:2023-05-31
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