电子束沉积大面积薄膜中的流场模拟及其控制

研究多元电子束蒸发沉积大面积薄膜中的加热及组分均匀性等关键问题：通过热流计算和非接触温度测量的相互结合，通过合理分布发热体的位置，从而控制大面积基片加热器的温度均匀性；用飞行时间质谱能谱仪测量蒸气的组分、密度和速度分布，并用直接模拟Monte Carlo(DSMC)方法详细研究多元共蒸发时真空室内稀薄气流之间的相互作用及其流场分布，并结合大面积薄膜表面组分及结构的表征，根据模拟和实验测量结果控制基片运动轨迹，从而解决大面积薄膜的成分均匀性问题。.电子束蒸发是常用的大面积薄膜制备方法，薄膜质量的好坏不仅取决于工艺参数的精确控制，而且与蒸气原子的流场分布关系密切。将航天领域表现出色的DSMC方法应用于薄膜制备工艺，不但可以解决工程领域的实际问题，而且可以实现不同行业先进技术的相互促进，是有价值的前沿研究课题。