高介电系数硅基钛酸锶钡铁电多层膜的研究

利用脉冲激光沉积技术制备硅基钛酸锶钡多层膜。采用多层膜结构和方法提高钛酸锶钡薄膜的介电系数。从钛酸锶钡多层膜的微几何结构、界面特性和单层尺寸效应等方面研究其介电系数增强效应出现的条件和机理，发展理论模型，并探索在硅基片上获得高介电系数和低损耗钛酸锶钡薄膜的有效途径。这是薄膜物理中有重要学术价值和应用前景的课题。