黑硅具有很低的反射率,有望在太阳能电池领域获得广泛应用。本项目利用等离子体浸没注入技术制备黑硅材料,研究不同注入条件(如注入偏压、注入时间、工作压强和气体比例等)下制备黑硅的技术,研究这些条件与黑硅表面结构及减反射之间的内在关联;研究黑硅表面微结构的光子陷阱作用;研究黑硅表面微结构形成机理,建立等离子体与硅表面作用的动力学和热力学模型;研究黑硅表面的晶格损伤和缺陷态,对黑硅表面进行处理,消除黑硅表面的损伤和缺陷。研制高效黑硅太阳能电池,主要研究扩散工艺条件(扩散温度和扩散时间等)对黑硅掺杂浓度和表面方块电阻的影响;研究黑硅表面钝化工艺与少数载流子寿命的关系,主要包括PECVD在黑硅表面生长钝化层的工艺条件;研究黑硅太阳能电池光生电子-空穴空穴对的高效产生、分离、输运和收集机制。
本项目利用等离子体浸没离子注入技术成功制备黑硅材料,研究了注入条件对黑硅形貌和反射率的影响,分析了黑硅的减反射机制,研究了黑硅表面微结构形成机理,优化了高效黑硅太阳能电池制备工艺,实现黑硅太阳能电池效率为18.3%。共发表学术论文20篇,申请国内发明专利10项,申请国际专利2项,培养中科院青年创新促进会2人和博士硕士研究生8人。
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数据更新时间:2023-05-31
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