利用Ga2O3纳米颗粒为Ga源,在SiGaAs等衬底上电泳制备Ga2O3膜,以NH3为氮源,在管式炉中控制NH3源流量,炉温和时间,反应重构形成GaN晶体膜,并探索P型掺杂。研究膜的结构形貌及稳定性,研究发光特性及机理,研究其电子输运特性,研究P型掺杂机理,研究Ga2O3膜反应重构形成GaN膜的原理,为制备GaN膜材料探索新方法,为制作GaN光电器件开辟新的工艺途径。
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数据更新时间:2023-05-31
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