精密光学制造的中高频误差分析与控制

现代光学技术的发展，要求精密光学零件的加工不但要很好控制表面形状和粗糙度误差，而且要严格控制中高频成份的误差，因为这些误差会对精密光学系统的光学性能带来极大的影响。这一要求对现代光学制造特别是非球面光学零件制造提出了新的挑战。本项目在多年研究确定性研抛技术的基础上，利用小波分析方法，研究制造过程的中高频误差演变和发展规律，并基于Harvey-Shack散射理论建立制造误差和光学性能的映射关系。提出确定性研抛材料去除有效率的概念，研究不同抛光去除函数的表面机械响应特性，掌握抛光模的各参数（如束径、能量、压力、速度、作用时间等）对不同频率成份误差的影响规律，达到最终合理控制各频率成份误差特别是中高频误差的目的。最后研究精密光学制造的优化工艺路线，利用CCOS、MRF、IBF等现代加工手段，及其对各频率成份误差控制能力的不同，形成精密光学零件制造的合理工艺路线。