光学抛光加工中的中高频面形误差形成机理研究

代表当今先进光学制造技术水平的大型天文望远镜、高功率激光系统和纳米光刻等极端光学系统的研制对光学元件面形误差提出了更为严格的要求，光学元件中高频面形误差直接影响光学系统的对比度和能量损失程度，中高频误差的抑制将是极端光学制造不可避免的难题。然而对于光学抛光过程的中高频误差形成机理一直没有明确的表征模型,且其抑制和消除工艺主要依赖于加工经验。开展光学抛光加工中高频误差形成过程机理研究，以建立明确的数学模型具有重要的意义。本项目将采用创新的"自下而上"探索结合"自上而下"验证的技术路线进行中高频误差形成机理模型研究。"自下而上"是指采用宏观和微观两个角度对抛光过程中光学表面的化学物理作用进行理论分析，建立中高频误差形成过程表征；"自上而下"是指建立与模型研究过程相适应的实验，对模型进行分析、验证和优化的过程。本项目的研究成果将为光学抛光过程中高频误差的抑制提供理论依据。