驻波脉冲功率共振耦合非平衡磁控溅射等离子体原理

本项目旨在发展和完善一种远离平衡态驻波高功率中频脉冲共振耦合磁控溅射沉积技术。研究由磁控放电阴极低β电荷漂移所形成电荷密度驻波、同轴非平衡会切磁场约束的等离子体束流湍动，同步耦合高功率中频脉冲，形成等离子体共振状态，提高其能量耦合效率、离化率、增强电荷传输。通过诊断脉冲等离子体束流电荷密度起伏、阴极低β漂移电荷密度波动的频谱特性、等离子体成分空间分布,揭示这种共振耦合对等离子体电荷传输、功率耦合效率的影响和机理；研究这种沉积技术对薄膜结构和性能造成的影响；理论研究这种远离平衡条件下等离子体中的玻姆条件和鞘层特性。提出一种远离平衡态，通过驻波脉冲功率共振耦合提高非平衡磁控溅射等离子体能量和离化率的技术和理论。