改变常规离子束增强沉积的物理过程,用Ar+、H+混合束注入溅射沉积的V2O5膜。Ar+轰击使部分V-O键断裂,游离氧与注入氧结合,使V降价,形成在军事和民用方面有迫切应邀需要的VO2薄膜。研究如何控制该过程中的物理和化学作用的相关性,以制备优质VO2薄膜,并用它试制悬空结构的16x16非制冷焦平面阵列样品。目前,尚未见有类似工作的报道。.
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数据更新时间:2023-05-31
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