物理和化学作用对离子束增强沉积制备VO2薄膜的相关性

基本信息
批准号:10175027
项目类别:面上项目
资助金额:20.00
负责人:李金华
学科分类:
依托单位:常州大学
批准年份:2001
结题年份:2004
起止时间:2002-01-01 - 2004-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:袁宁一,李坤,蒋美萍
关键词:
离子束增强沉积二氧化钒薄膜红外敏感膜
结项摘要

改变常规离子束增强沉积的物理过程,用Ar+、H+混合束注入溅射沉积的V2O5膜。Ar+轰击使部分V-O键断裂,游离氧与注入氧结合,使V降价,形成在军事和民用方面有迫切应邀需要的VO2薄膜。研究如何控制该过程中的物理和化学作用的相关性,以制备优质VO2薄膜,并用它试制悬空结构的16x16非制冷焦平面阵列样品。目前,尚未见有类似工作的报道。.

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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