离子束增强沉积制备过渡族金属硼化物薄膜的研究
基本信息
结项摘要
本工作是用离子束增强沉积法（IBED）在硅、铜、钢基体上制备过渡族金属硼化物薄膜主要是二硼化钛（TiB2）薄膜及其性能与微结构研究。俄歇电子谱（AES）分析指出：用IBED法成功地制备了符合化学成份配比的有较宽混合区的TiB2薄膜；用X射线的衍射（XBD）研究了膜的微结构，测定了膜厚及其硬度，结果指出TiB2的晶化程度随轰光束能量成束流的增加而提高，膜的硬度也随之增高（2421至3370Kg/mm（2））；膜的高温氟化试验结果指出镀有TiB2薄膜的铜比铜氧化增量减少数倍；电化学腐蚀试验表明腐蚀、维纯及临界电流密度的降低约2个数量级；膜的摩擦磨损试验指出摩擦系数变小及磨损量减少。还做了膜的划痕试验、膜的电阻测定及拓电强烧蚀试验。此膜已获得良好的应用效果。
项目摘要
项目成果
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数据更新时间：2023-05-31
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