局域表面等离子体纳米光刻研究

基于金属结构可使电磁波在纳米尺度上局化的特性，提出制作任意分布纳结构图形的的新型光学光刻方法。采用时域有限差分法数值计算与模拟等方法，研究入射光波通过金属掩模结构产生局域表面等离子体波分布的机理及物理模型，分析表面等离子体波的局域化特性，建立入射光偏振特性、金属掩模结构形状以及表面等离子体波局域化程度之间的关系；发展基于表面等离子体波局域化特性的光刻掩模设计方法，并研制出用于特定纳米结构制备的局域化光刻掩模；利用365nm光源开展光刻实验并获得局域化表面等离子体光刻制作纳结构的实验结果。本项目发展的任意纳结构超衍射光刻新方法将为纳光子器件制备、纳米尺度物理新现象和新机制的研究提供新的途径，同时对延长光学光刻生命力具有重要意义。