采用色散媒质的矢量电磁场计算理论,结合表面等离子体波的局域特性,建立加工任意图形的掩模结构的逆向设计方法,并设计出相应的光刻掩模;分析在长波长光的照射下,所设计出的掩模上表面等离子体波对出射光场分布的调制情况。研究利用传统光刻技术和电子束工艺制作金属掩模的工艺。通过g线曝光光源激发等离子体波,结合g线光刻胶,探索观察等离子体波对光刻胶的作用机理、感光特性、光刻图形的对比度、侧壁陡度、分辨率、及光刻
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数据更新时间:2023-05-31
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