利用激光诱导荧光技术检测氟碳射频等离子体中自由基的表面反应活性

氟碳等离子体在等离子体刻蚀及功能性氟碳薄膜的沉积方面具有广泛的应用前景，近些年来一直受到世界各国学者的关注。目前，关于氟碳等离子体中的离子和自由基在刻蚀／沉积中的作用还不十分清楚，一些认识缺乏实验数据的支持。利用激光诱导荧光技术建立的自由基表面反应成像仪可实现对等离子体产生的自由基进行光谱识别，对它们在材料表面反应活性定量检测，对比自由基的表面反应活性，分析不同自由基在刻蚀／沉积中的作用。同时，采用双分子束方法，实现特定物种的独立控制，避免单分子束自由基表面反应存在的自由基与自由基、自由基与离子之间的相互干扰，可实现"纯粹"意义的自由基表面活性检测，并探测自由基及离子在刻蚀过程中的表面反应产物。该方面的工作，对于加深刻蚀／沉积机理的认识，优化刻蚀工艺条件，提高薄膜沉积质量，具有重要指导意义。