新型高密度硬盘介质及其读写性能研究

基本信息
批准号:69373032
项目类别:面上项目
资助金额:8.00
负责人:方光旦
学科分类:
依托单位:中国科学院计算技术研究所
批准年份:1993
结题年份:1996
起止时间:1994-01-01 - 1996-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:刘镜周,潘国宏,周岳明,卢承烈,王继声
关键词:
高密度硬盘介质硬盘介质读写特征
结项摘要

本课题由北大物理系与中科院计算所共同完成,北大负责铁基轻稀土合金记录媒体的研究,计算所负责记录媒体读写性能及测试装置的研究。在记录媒全方面研究了钕铁和钕铁硼记录媒体的材料组成、微结构、磁性能、成膜机理以及这们之间的相互关系。研究结果表明用电子束镀膜制成的具有垂直机理的轻稀土铁基合金膜,从磁性能和微结构表征以及矫顽力的改善方面都可证明钕铁硼的磁性能优于钕铁适合高密度记录。当使用溅射法代替电子束镀膜时,碰到来自制靶工艺、材料分析、和溅射设备等方面的问题,未能制出可供测试的磁记录媒体。计算所已按原计划设计并研制了评价高密度记录媒体的测试电路和测试装置并选择和研制了评价本课题研究结果的记录磁头和盘片。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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