等离子刻蚀被广泛应用在半导体器件的生产工艺中,而刻蚀工艺过程中的终点检测被认为是一项关键技术,本项目提出了一种新的用半导体激光二极管的激光诱发荧光技术,用来检测等离子体中相关粒子的浓度变化,而达到终点检测的目的。该技术将有灵敏度高、可靠性好、成本低等优点,将对我国半导体工业中刻蚀工艺的可靠性的提高起到重大作用。
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数据更新时间:2023-05-31
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