同位素示踪、色谱与ICP-MS联用技术研究低剂量汞对子代的神经毒性

基本信息
批准号:20475055
项目类别:面上项目
资助金额:23.00
负责人:丰伟悦
学科分类:
依托单位:中国科学院高能物理研究所
批准年份:2004
结题年份:2007
起止时间:2005-01-01 - 2007-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:张芳,王萌,史俊稳,汪冰,欧阳宏
关键词:
HPLCICPMS联用技术同位素示踪子代低水平
结项摘要

目前对低剂量、长期汞暴露对婴儿的毒性损伤的评价仍不清楚。我国是汞排放量大国,人口众多,有必要对胚胎早期低水平汞暴露导致的婴儿潜在的中枢神经系统损伤机制作深入的研究。体内MT水平是衡量组织细胞拮抗外来毒素的重要指标之一。研究表明MT-III与中枢神经系统的发育及汞的毒性损伤有密切的关系。同位素示踪、色谱与ICP-MS联用技术是高灵敏度的用于金属化学形态测定的分析手段。本研究以宫内接触低剂量无机汞和甲基汞的仔鼠为研究对象,通过同位素示踪、HPLC-ICP-MS联用技术研究低水平汞在母子脑组织及其亚细胞组分中的分布及定位;低剂量宫内汞暴露对子鼠脑MT-III表达量的影响、对其它必需微量元素体内代谢平衡的影响、对子鼠脑组织及其亚细胞组分中其它金属蛋白表达量的影响、对脑组织及其亚细胞组分中重要的抗氧化酶活性的影响,探讨低水平汞胚胎暴露对子代的神经发育毒,为今后金属蛋白质研究发展新的分析方法。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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