液体化学蚀刻表面成形新技术研究
基本信息
批准号：10476025
项目类别：联合基金项目
资助金额：28.00
负责人：项震
学科分类：
依托单位：浙江大学
批准年份：2004
结题年份：2007
起止时间：2005-01-01 - 2007-12-31
项目状态： 已结题
项目参与者：葛剑虹,徐海松,侯民贤,潘健,熊凯
关键词：
化学蚀刻位相板数控化学抛光
结项摘要
现代的大功率强激光的发展对大口径、高精度的位相校正光学元件提出了迫切的要求，传统的研磨抛光工艺技术无法满足激光系统随机位相校正板的制造要求。本项目研究光学表面的化学蚀刻加工机理，探索高精度光学表面的湿法化学刻蚀加工机制，以氢氟酸溶液作为刻蚀液，利用氢氟酸对SiO2的化学腐蚀作用作为湿法加工机理来进行光学元件表面的定量加工。基于Marangoni界面效应，结合干涉检测技术，提出采用液体化学蚀刻成形技
项目摘要
项目成果
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数据更新时间：2023-05-31
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