基于准LIGA技术的MEMS制造误差修正方法计算机仿真研究

本项目旨在研究如何建立集成的从掩膜加工到MEMS深度光刻全过程的计算机仿真模型。在此计算机仿真模型中，将重点研究:1).掩膜加工中几何图形的误差算法；2).光刻过程中MEMS微结构几何图形的误差算法。3).基于MEMS微结构特定关注层面的误差反馈，研究动态的计算机模拟修正初始设计图形，以期获得高精度大高宽比的MEMS微结构。.MEMS是多种学科交叉融合并具有战略意义的前沿高技术。MEMS以其微型化的优势，在汽车、电子、家电、机电等行业和军事领域有着极为广阔的应用前景。深度光刻正是应用于MEMS加工、制作的一项重要技术。然而直接加工MEMS样机既耗费大量的资金，又延长了研制周期。通过计算机仿真研究，使设计人员能够在加工之前检验设计和工艺的有效性，并在设计阶段就能够考虑工艺变化对MEMS微结构的影响，这对于提高MEMS器件设计制造水平具有重要意义。