高分辨电子显微表面成象法的研究

基本信息
批准号:29575218
项目类别:面上项目
资助金额:8.00
负责人:关若男
学科分类:
依托单位:中国科学院金属研究所
批准年份:1995
结题年份:1998
起止时间:1996-01-01 - 1998-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:李日升,李树有,谌东华
关键词:
高分辨电子显微镜表面分析表面结构
结项摘要

采用实验观察、理论分析和模拟计算三结合的方法,研究了高分辨电子显微正面成像法中试样的制备、表面波与体波的相互作用及其随试样厚度变化产生的此长波消、表面波与体波振幅的可比性在成像中的作用、表面像的厚度周期性、在厚膜上进行表面结构观察的可能性以及试样厚度对顶-底效应的影响等内容,从理论上揭示并通过实验证实了表面像的厚度周期性;突破了只有超薄膜才适于表面观察的认识,显示了在几十约料厚的试样上进行表面结构观察的可能性;为解决正面成像法中试样制备了难题、消除干扰正面成像的顶-底效应开辟了新的思路;对推动广泛利用通常的高分辨电子显微镜在原子水平进行表面结构研究,有重要的啟发和示范作用。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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