原子光刻技术研究

本课题研究内容是原子光学领域极具应用潜力的原子刻印技术，是国内首次开展的研究项目。三年中，建立了原子光刻的专用实验设备和实验条件，成功地运转了Cr原子束装置，在基极上镀出了带有实体掩膜花样的Cr金属层。在紫外稳频激光源的研制上取得一定进展，包括红外染料激光器运转、紫外倍频激光输出，稳频用Cr阳极灯及相应的稳频稳腔电路的研制等。因条件所限，最终的原子刻印实验方案由原生的兰移近共振驻波场原子束聚焦改为红移大失谐强光驻波场聚焦，该方案此前未见他人报导。理论研究方面提出了具创新意义的磁透镜原子束成像方案，又实现任意图形的原子刻印，分析了原子刻印中各类像差和克服方法。发表学术论文6篇，申报国家专利1项。