大直径(Φ≥125mm)硅抛光片表面结构表面能谱研究

<大直径硅抛光片表面结构，表面能谱研究>项目已基本完成。设计建造具有原子分辨率电化学扫描隧道显微镜/扫描隧道谱仪在恒电位控制下可以原位观察固体与电解液反应中表面微结构变化，界面电子能谱及电化学特性。该仪器主要用于在纳米尺度研究硅，硅化镓抛光片表面精细加工的技术问题。在普查大尺寸硅表面缺陷的基础上，重点原位观察稀硫酸溶液中硅表面微缺陷，清洗抛光中试剂微腐蚀选成微粗化，固液界面的电子特性。解决目前抛光工艺存在的问题，探索提高表面质量（平整度、清洁度）的新方法，优化精加工条件，取得重要进展。开发的a-SI内吸除工艺有效地降低了硅抛光片表面杂质及表面的缺陷密度。