表面上有序排列的金属团簇：电子结构和稳定性的理论

表面上有序排列的金属团簇在超高密度磁性记录，微电子学以及表面催化中都有重要的应用前景。从理论上仔细地研究衬底－团簇以及团簇－团簇的相互作用对理解表面上团簇的形成以及相关的物理化学性质有重要的意义。本项目通过第一原理的理论计算和模拟，必要时配合经验模型的研究，较系统地研究二维有序排列的金属团簇在典型的绝缘体、半导体以及金属表面上的稳定性及其电子结构性质。系统地研究不同衬底对同一团簇的电子结构及稳定性的影响。针对的团簇将主要包括X4, X6, X8 (X为金属元素，如：Ag, Fe, Ni 等)，典型的表面包括TiO2(110)(1x1), Si(100)(2x1), W(001)c(2x2)等。同时，在探索表面作为有序排列团簇生长的"模板"方面，也希望先行得到新的理论结果，再希望得到实验上的证实。