高性能GaAs探测器的研制,用国产高阻半绝缘砷化镓单晶材料,经掩模化学腐蚀抛光减薄样品(厚度80μm左右),采用较合理的Ni-Ge-Au合金蒸发工艺制备欧姆接触并经过真空热处理和表面处理等工艺,制备出正向导通电压=≤15伏;反向耐压300伏时漏电流为2-5×10(-8)A;对(241)Am59.5KeV的低能γ射线,FWHM为5.61KeV。
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数据更新时间:2023-05-31
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