强磁场对气相沉积制备薄膜材料的影响

进行强磁场下气相沉积制备薄膜材料基础研究，在强磁场的环境下真空蒸发和化学气相沉积金属等薄膜，使用AFM、SEM、TEM、XRD等手段观察薄膜的形貌、组织结构、晶体位向、空穴和位错等缺陷，研究强磁场对薄膜平整度、晶体取向、缺陷等的影响，探究强磁场下原子和原子团在衬底和界面上沉积的基本过程，分析这种条件下岛状和层状生长方式的变化，探索强磁场控制形核和生长方式形成自组装结构的方法，提出相应技术原理，为应用强磁场制备高质量和自组装结构薄膜提供基础。