利用硅等半导体中注入一定剂量的氢等离子后在随后的热处理过程中将在半导体中形成埋层纳米孔层的原理,结合低温键合技术,可使一薄层的半导体膜转移到另一衬底上形成多层结构。本申请研究这种智能剥离技术,制备实用的GaAs/Si等异质结构材料和Si/CoSi2/Si等SOM材料,以及这些材料特殊的质量表征技术。这项研究开拓了一种新的异质结构材料制备方ā
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数据更新时间:2023-05-31
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