加速器-电镜联机研究II-VI族铁电铁磁结构形成的动态过程

基本信息
批准号:10875091
项目类别:面上项目
资助金额:36.00
负责人:刘传胜
学科分类:
依托单位:武汉大学
批准年份:2008
结题年份:2011
起止时间:2009-01-01 - 2011-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:柯贤文,杨兵,任峰,徐进霞,宋博,何俊,田灿鑫,叶明生
关键词:
离子注入加速器电镜联机原位多铁性CdCrS(Se)
结项摘要

利用离子束可进行多元素共掺杂、剂量精确可控的优点,在CdS、CdSe薄膜中注入过渡金属Cr,进而补充注入适当硫系元素,形成非氧化物多铁性(multiferroic)材料CdCrS和CdCrSe。用加速器-电镜联机对注入样品的微结构进行原位观测,获得晶体结构变化和新相形成的快速动态信息,用离子束背散射/沟道能谱技术测定缺陷分布及掺杂原子的晶格定位,系统研究注入剂量、温度等对材料成分和结构的影响。用超导量子干涉仪(SQUID)和铁电特性测试仪测定其磁性和铁电性,优化注入及原位退火条件,寻找铁电、铁磁二性共存的区域。对典型样品进行离线超高分辨电镜分析,在纳米尺度揭示多铁性结构形成的精细过程及各种缺陷和二次相结构的影响,深入研究多铁性形成的微观机制和相关物理规律,为离子束技术制备多比特(multibit)存储器件提供科学依据。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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