钴基磁性超晶格膜的性能研究

基本信息
批准号:19274066
项目类别:面上项目
资助金额:6.00
负责人:王荫君
学科分类:
依托单位:中国科学院物理研究所
批准年份:1992
结题年份:1995
起止时间:1993-01-01 - 1995-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:罗春平,黄丁,尚昌和,张慧云
关键词:
***
结项摘要

用溅射法成功地制备了具有国际水平的高性能的钴基多层膜系列,并制作了二英寸的铂钴多层膜的磁光光盘。在铂层中掺杂少量铜后,在780纳米波长,铂铜钴多层膜的极向克尔转角比铂钴多层膜大百分之五十,此外,此增强峰值不随铜掺杂浓度呈现振荡象。在铂层中掺钴,铟,镓和钯层中掺铜地发现了一些有意义的结果。这 些结果是在我们实验室首先发现的它不仅具有重要学术意义具有可能的作为磁光存储材料的应用前景。磁弹性模型计算表明,铂钴和钯钴多层膜中的界面各向异性不大可能来源于格子失配所引起的磁弹性解。在钴基多层膜中所出现的克尔转角增强和振荡的机理尚需进一步更深入地探讨。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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