掺Ce磁光薄膜制备及其磁光特性研究

制备了性能优良的CeY2Fe5O12靶。通过大量实验研究得到了预烧温度和烧结温度条件对靶性能的影响关系；在各种不同基片温度和溅射功率下研究了对薄膜成分、薄膜厚度、磁光参数的影响。研究证明基片温度直接决定晶化程度，对薄膜的各项参数起决定性作用。采用热处理结晶化在625℃左右可以得到单一的石榴石相，这点从X射线分析及薄膜比法拉第旋转角θF测量得到证实。在700-800℃N2气热处理同样可以实现薄膜结晶化，但法拉第转角较小，这是由于薄膜中存在严重氧缺陷所致。实验制得膜厚为0.3μm的Ce：YIG薄膜，热处理后，室温下633nm处其比法拉第旋转角θF为1.9×10（4）deg/cm，光吸收系数α为2500（-1）。