阳离子聚合型乙烯基醚紫外光固化纳米压印材料的研制与应用

在目前紫外光固化纳米压印技术和压印材料的基础上，本申请拟发展一种阳离子聚合型乙烯基醚紫外光固化纳米压印材料本。本申请的阳离子聚合型乙烯基醚紫外光固化压印材料将采用双层膜结构体系, 它通过旋转涂膜的方法在基片上形成厚度均匀的紫外光固化液膜，然后进行压印。同时将探索该材料作为光刻胶材料应用于光刻工艺的可行性，和应用于其它压印方法如电致固化该材料的可行性，完善和丰富纳米压印技术的手段和材料。由于光刻技术是一项发展成熟和被工业界、科研领域广泛接受并应用的纳米制备技术，虽然它无法获得超小尺寸的纳米结构，但对于较大尺寸的纳米结构制备仍然有着其它技术所无法比拟的优越性。如果能够把纳米印刷技术与光刻技术相结合，在制备较大尺寸的纳米结构时采用光刻技术，制备超小尺寸的纳米结构采用纳米印刷技术，不仅能够赋予光刻技术新的生命力，更为纳米压印技术的进一步推广和应用起到良好的桥梁作用。