本项目用高频溅射法在单晶硅衬底上沉积a-Si层,测量了该层的结构、厚度、电阻率和导电类型。用上述a-Si层作为扩散阻档层,一次高温扩散形成高效硅太阳电池所需的浓度表面分布,研究了优化扩散工艺和腐蚀工艺,对比了常规硅太阳电池工艺的本工艺所制备的太阳电池,证明新工艺所占电池的串联电阻更低,填充因子和效率有所提高。还研究了不同国家生产太阳电池所用单晶硅衬底材料的性能,发现国产衬底材料质量不如国外著名厂家,但用优级原料所制备的材料却优于国外的,说明要提高国产太阳电池的性能,应从拉单晶的原料上开始把关,本项目所研究的方法可供工业化生产参考,有利于降低成本,提高效率。
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数据更新时间:2023-05-31
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