在国内外第一次提出利用具有较大异质结价带不连续性△Hv的InGaP/GaAs异质系统,并根据与HEMT类似的方法设计具有二维空穴气(2DHG)效应的InGaP/GaAsP沟HFET,以改善空穴载流子场效应晶体管的电性能。通过对几种异质层结构的分析与对比实验,确定出一种目前最适合的InGaP/GaAs pHFET的异质结构和参数,并用GS-MBE及MOCVK外延技术生长了用于研制的功能材料。为了正确获得InGaP/GaAs异质结构的△Ev值,不采用在多数研究人员通过间接测试的办法,使用C-V分布方法在专门设计制作的p-p同型异质结样品上直接测得△Ev=316meV的可靠数据。运用上述外延材料,通过解决器件制造中的特殊工艺难点,研制的InGaP/GaAs pHFET,室温下饱和的电流密度达61mA/mm, 比国外报道的最好的数据大50%,室温跨导达到40mS/mm,为此新型器件在n/p CHFET逻辑技术中的应用展示极好前景。
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数据更新时间:2023-05-31
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