高分辨软X光透射光栅制备技术研究

自支撑金透射光栅是极紫外（EUV）和软X射线波段重要的色散元件之一，已广泛地应用于激光惯性约束聚变等离子体诊断、X射线激光实验诊断和天体物理学等领域的光谱测量。透射光栅的色散与其线密度呈正比，线密度愈高，光栅性能愈好。.本项目拟研究高分辨X光透射光栅制备技术，通过对高线密度光栅制作宽容度的分析，全息曝光、显影过程中光刻胶光栅掩模占空比的量化调控，离子束刻蚀图形转移精密化控制的优化工艺参数，相应光栅的保护及安装，建立透射光栅完整可重复的制作工艺方法。