SF2MoF2及WF2自由基是半导体工业的等离子体蚀刻过程中一个重要的中间产物,此类自由基的光谱及动力学研究对了解其能级结构,化学活性,光电离及解离等动力学过程起着关键作用。本课题拟用直流脉冲放电方法产生所需的自由基,通过激光诱导荧我光谱和共振增强多光子电离光谱测量,结合同步辐射光吸收,光电离及荧光激发谱测量,深入研究指定自由基电子激发态能级结构及其解离动力学过程。
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数据更新时间:2023-05-31
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