新兴半导体材料的157nm激光三维微加工技术研究

基本信息
批准号:50775169
项目类别:面上项目
资助金额:26.00
负责人:戴玉堂
学科分类:
依托单位:武汉理工大学
批准年份:2007
结题年份:2010
起止时间:2008-01-01 - 2010-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:王俊杰,李焰,许儒泉,李政颖,赵磊
关键词:
氮化镓三维微加工157nm激光研磨激光切割激光
结项摘要

该项目是利用我校引进的国内首台157nm激光微加工机,进行第三代光电半导体氮化镓及其衬底材料(蓝宝石/炭化硅)的三维微加工技术与工艺研究。氮化镓加工难度极大。申请人提出"微气流辅助"与"焦平面回退循环"相结合的工艺方法,进行大深宽比沟槽刻蚀或制作高质量直壁面;同时探索斜面/曲面三维微加工的技术与工艺。通过光子吸收理论和热物理理论进行加工过程仿真,研究其微加工机理。提出利用"筛状掩模"与"焦平面回退二次扫描"相结合的氮化镓激光研磨工艺方法,其中"筛状掩模"可选择性控制激光束能流密度,模拟机械磨具。我们也研究氮化镓晶体生长的衬底材料(蓝宝石/炭化硅)的激光研磨工艺。最后针对蓝光LED一类器件,研究其异质多层硬质膜结构的精密激光切割/分片技术。我们相信,氮化镓及其衬底材料微加工技术的成熟和多样化,对提高我国蓝光LED等新型光电子器件工艺水平具有重大意义和实际应用价值。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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