基于等离子体刻蚀的聚合物薄膜亚层光谱与形态分析:方法、应用和仪 器

基本信息
批准号:51873172
项目类别:面上项目
资助金额:59.00
负责人:鲁广昊
学科分类:
依托单位:西安交通大学
批准年份:2018
结题年份:2022
起止时间:2019-01-01 - 2022-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:卜腊菊,朱远惟,魏鹏,李东藩,鲁万龙,胡郁蓬,王钰恒,王子豪,任雨蓉
关键词:
聚合物半导体高分子形态高分子复合材料相分离高分子薄膜
结项摘要

Polymer (composite) thin films are usually featured with film-depth-related (sublayer) composition, molecular conformation, chain alignment, crystallinity and crystallite sizes, which are correlated with depth-dependent composition, optical and electronic properties. However, so far only a few expensive techniques are available for sublayer analysis. We have previously found that etching under low-pressure oxygen plasma could selectively remove the materials without subsurface damage. Basing on such a finding, in this proposal we plan to use surface-selective etching to eth polymer film and to in-situ monitor the change of light absorption, charge transport and film morphology. We could therefore rebuild the film-depth-dependent light absorption spectra, which will be used to figure out light-matter interaction. 3-dimensional electron tomography is thus reconstructed from the etching method. The depth-dependent charge transport is also correlated with sublayer spectra and sublayer morphology. This depth-related analysis could contribute to the performance optimization of opt-electronic devices. Surface-selective etching is also applicable for devices based on sublayer film. Finally, we plan to develop new lab instrument to in-situ measure sublayer absorption spectra.

高分子(复合)薄膜在不同的深度位置处(亚层)往往具有不同的化学组成、分子构象、链取向、结晶性、微晶尺寸等,因此薄膜亚层的化学、光学、电学性质和所处的深度位置有关。然而,薄膜亚层的分析检测手段却相对缺乏且成本高昂。我们在前期研究中发现:较低压强的氧等离子可以选择性刻蚀聚合物薄膜表面,并不会对表面以下的材料产生损坏。在此基础上,我们拟在本项目中:1,用连续等离子体刻蚀原位测试薄膜的吸收光谱;优化光学模型,实现具有较高空间高分辨率的薄膜深度分辨吸收光谱,并将结果应用于薄膜结构分析、光-物质相互作用、电荷输运、光电器件性能优化等;2,使用表面选择刻蚀工艺研究薄膜亚层形态并进行三维电镜形态重构;3,将亚层薄膜分析结果用于多层薄膜结构的光学和电学性能研究,致力于提高光电器件性能;4,利用表面选择刻蚀这种“减材加工”方法开发基于亚层薄膜的聚合物电子器件;5,改进并推广基于亚层光谱分析的新型原位光谱仪。

项目摘要

高分子薄膜往往存在一定的各向异性和垂直相分离。高分子(复合)薄膜在不同的深度位置处(亚层)往往具有不同的化学组成、分子构象、链取向、结晶性、微晶尺寸等,因此薄膜亚层的化学、光学、电学性质和所处的深度位置有关。然而,薄膜亚层的分析检测手段和配套的检测仪器却相对缺乏且成本高昂。因此我们在本项目中:1,用连续等离子体刻蚀原位测试薄膜的吸收光谱;优化光学模型,实现具有较高空间高分辨率的薄膜深度分辨吸收光谱,并将结果应用于薄膜结构分析、光-物质相互作用、电荷输运、光电器件性能优化等; 2,将亚层薄膜分析结果用于多层薄膜结构的光学和电学性能研究,致力于提高光电器件性能;3,利用表面选择刻蚀这种“减材加工”方法开发基于亚层薄膜的聚合物电子器件;4,改进并推广基于亚层光谱分析的新型原位光谱仪。所研发的仪器精度高,薄膜垂直分辨率优于1纳米。截止到2022年底本项目执行结束,本项目开发的仪器产生的数据用户已经超过200家,光谱仪被中国科学院、清华大学、北京大学等机构采购。

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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